Etching of hexagonal SiC surfaces in chlorine-containing gas media at ambient pressure

The modification of the silicon carbide (4H-SiC) single-crystal surface in a chlorine-containing gas mixture at high temperature (800–1000 °C) and ambient pressure was investigated. The results of silicon carbide chlorination are found to strongly depend on the hexagonal surface orientation. Due to...

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Veröffentlicht in:Surface science 2006-06, Vol.600 (11), p.2242-2251
Hauptverfasser: Zinovev, A.V., Moore, J.F., Hryn, J., Pellin, M.J.
Format: Artikel
Sprache:eng
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Online-Zugang:Volltext
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