Etching of hexagonal SiC surfaces in chlorine-containing gas media at ambient pressure
The modification of the silicon carbide (4H-SiC) single-crystal surface in a chlorine-containing gas mixture at high temperature (800–1000 °C) and ambient pressure was investigated. The results of silicon carbide chlorination are found to strongly depend on the hexagonal surface orientation. Due to...
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Veröffentlicht in: | Surface science 2006-06, Vol.600 (11), p.2242-2251 |
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Hauptverfasser: | , , , |
Format: | Artikel |
Sprache: | eng |
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