Capacitively coupled plasma source operating in Xe/Ar mixtures

The parameters of a capacitively coupled plasma source operating in Xe/Ar mixtures have been studied using particle-in-cell/Monte Carlo methods. The plasma density, ion energy distributions (IEDs) for different sorts of ions, ion current densities, energy delivered by ions to the electrodes and othe...

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Veröffentlicht in:Journal of physics. D, Applied physics Applied physics, 2005-01, Vol.38 (2), p.287-299
Hauptverfasser: Yu Babaeva, N, Lee, J K, Shon, J W
Format: Artikel
Sprache:eng
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