Capacitively coupled plasma source operating in Xe/Ar mixtures
The parameters of a capacitively coupled plasma source operating in Xe/Ar mixtures have been studied using particle-in-cell/Monte Carlo methods. The plasma density, ion energy distributions (IEDs) for different sorts of ions, ion current densities, energy delivered by ions to the electrodes and othe...
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Veröffentlicht in: | Journal of physics. D, Applied physics Applied physics, 2005-01, Vol.38 (2), p.287-299 |
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Hauptverfasser: | , , |
Format: | Artikel |
Sprache: | eng |
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Online-Zugang: | Volltext |
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