Flattening of micro-structured Si surfaces by hydrogen annealing

We report atomic scale flattening of surfaces of microstructures formed on Si wafers by furnace annealing. To avoid thermal deformation of the fabricated structures, advantage was taken of hydrogen annealing, which enables us to decrease the relaxation rate of Si surfaces due to surface hydrogenatio...

Ausführliche Beschreibung

Gespeichert in:

Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:	Applied surface science 2006-05, Vol.252 (15), p.5279-5283
Hauptverfasser:	Hiruta, Reiko, Kuribayashi, Hitoshi, Shimizu, Ryosuke, Sudoh, Koichi, Iwasaki, Hiroshi
Format:	Artikel
Sprache:	eng
Online-Zugang:	Volltext
Tags:	Tag hinzufügen Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!

Schreiben Sie den ersten Kommentar!