Growth of MgxZn1-xO films using remote plasma MOCVD

MgrZn1-xO films were successfully grown on a-plane sapphire (1 1 2 0) substrates by remote plasma enhanced metalorganic chemical vapor deposition (RPE-MOCVD). Diethyl zinc (DEZn), bis-ethylcyclopentadienyl magnesium (EtCp2Mg) and oxygen plasma were used as source materials. By increasing Mg content...

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:Applied surface science 2005-05, Vol.244 (1-4), p.385-388
Hauptverfasser: NAKAMURA, Atsushi, ISHIHARA, Junji, SHIGEMORI, Satoshi, AOKI, Toru, TEMMYO, Jiro
Format: Artikel
Sprache:eng
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