Thermal expansion anisotropy and site occupation of the pseudo-binary molybdenum vanadium silicide Mo5Si3-V5Si3

The coefficients of thermal expansion (CTEs) and atomic site occupation factors were measured for the pseudo-binary molybdenum-vanadium silicide Mo5Si3-V5Si3. The ratios of the CTEs in the crystallographic c and a directions range from 2.0 for Mo5Si3 to 1.2 for Mo2V3Si3. The metal atoms can occupy c...

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:	Acta materialia 2005-05, Vol.53 (8), p.2431-2437
Hauptverfasser:	RAWN, C. J, SCHNEIBEL, J. H, FU, C. L
Format:	Artikel
Sprache:	eng
Schlagworte:	Applied sciences Exact sciences and technology Metals. Metallurgy
Online-Zugang:	Volltext
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