Effect of temperature on the initial, thermal oxidation of zirconium
A novel, methodological approach by combined in situ ellipsometry and angle-resolved X-ray photoelectron spectroscopy (AR-XPS) has been applied to investigate the initial oxidation of zirconium within the temperature range 373–773 K. The effective-depth distributions and individual sublayer thicknes...
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Veröffentlicht in: | Acta materialia 2005-06, Vol.53 (10), p.2925-2935 |
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Hauptverfasser: | , , |
Format: | Artikel |
Sprache: | eng |
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Online-Zugang: | Volltext |
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