Genetic algorithm-based optical proximity correction for DMD maskless lithography

We present an optical proximity correction (OPC) method based on a genetic algorithm for reducing the optical proximity effect-induced pattern distortion in digital micromirror device (DMD) maskless lithography. Via this algorithm-assisted grayscale modulation of the initial mask at the pixel level,...

Ausführliche Beschreibung

Bibliographische Detailangaben

Veröffentlicht in:	Optics express 2023-07, Vol.31 (14), p.23598-23607
Hauptverfasser:	Yang, Zhuojun, Lin, Jie, Liu, Liwen, Zhu, Zicheng, Zhang, Rui, Wen, Shaofeng, Yin, Yi, Lan, Changyong, Li, Chun, Liu, Yong
Format:	Artikel
Sprache:	eng
Online-Zugang:	Volltext
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