Side gating in silicon germanium hetero-dimensional field effect transistors
Investigation into the side gate control of a two-dimensional hole gas in a silicon germanium hetero-dimensional field effect transistor (HDFET) is presented. Side gates within these devices form pn junctions between a three-dimensional contact and a two-dimensional electron or hole (Fermi) gas. A p...
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Veröffentlicht in: | Microelectronic engineering 2004-02, Vol.71 (2), p.197-208 |
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Hauptverfasser: | , |
Format: | Artikel |
Sprache: | eng |
Schlagworte: | |
Online-Zugang: | Volltext |
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