Monitoring and control of RF thermal plasma diamond deposition via substrate biasing

In a RF induction thermal plasma chemical vapour deposition system the substrate is used as an electrical probe to monitor the diamond film evolution in situ. The evolving electron emission current allows us to identify the transition from the initial nucleation stage to the diamond growth stage. A...

Ausführliche Beschreibung

Bibliographische Detailangaben

Veröffentlicht in:	Measurement science & technology 2004-01, Vol.15 (1), p.161-164
Hauptverfasser:	Berghaus, Jörg Oberste, Meunier, Jean-Luc, Gitzhofer, François
Format:	Artikel
Sprache:	eng
Online-Zugang:	Volltext
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