Adhesion trends and growth mode of ultra-thin copper films on MgO
Ab initio simulations are performed for Cu atoms adsorbed on the perfect MgO(001) substrate, with an ordered metal coverage varied from 1/4 monolayer (ML), i.e. almost single atoms, up to 1 ML. A strong dependence of the adhesion energy and the sub-monolayer film distance from the substrate on the s...
Gespeichert in:
Veröffentlicht in: | Journal of physics. Condensed matter 2004-07, Vol.16 (28), p.4881-4896 |
---|---|
Hauptverfasser: | , , , , , |
Format: | Artikel |
Sprache: | eng |
Schlagworte: | |
Online-Zugang: | Volltext |
Tags: |
Tag hinzufügen
Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!
|
Schreiben Sie den ersten Kommentar!