Immersion plating of nickel onto a porous silicon layer from fluoride solutions
The deposition of nickel (Ni) onto a porous silicon (PS) layer by immersion plating from acidic and alkaline fluoride solutions has been studied. In an immersion plating bath of simple hydrofluoric acid (HF) of pH 2 containing Ni ions, no metal deposition was observed. However, visible metallic Ni w...
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Veröffentlicht in: | Physica status solidi. A, Applied research Applied research, 2003-05, Vol.197 (1), p.51-56 |
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Hauptverfasser: | , , |
Format: | Artikel |
Sprache: | eng |
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