Ultrathin zirconium silicate films deposited on Si(100) using Zr(Oi-Pr)2(thd)2, Si(Ot-Bu)2(thd)2, and nitric oxide

Ultrathin Zr silicate films were deposited using Zr(O'-Pr)2(tetramethylheptanedione, thd)2, Si(Ot-Bu)2(thd)2 and nitric oxide in a pulse-mode metallorganic chemical-vapor deposition apparatus with a liquid injection source. High resolution transmission electron microscopy, atomic force microsco...

Ausführliche Beschreibung

Bibliographische Detailangaben

Veröffentlicht in:	Journal of the Electrochemical Society 2003-07, Vol.150 (7), p.C465-C471
Hauptverfasser:	Chen, H.-W., Huang, T.-Y., Landheer, D, Wu, X., Moisa, S, Sproule, G I, Kim, J K, Lennard, W N, Chao, T.-S.
Format:	Artikel
Sprache:	eng
Online-Zugang:	Volltext
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