Capacitance techniques for the evaluation of electronic properties and defects in disordered thin film semiconductors

The theoretical background of the Schottky barrier capacitance of disordered semiconductors is recalled and the temperature, frequency, and bias dependence of the capacitance is illustrated on hydrogenated amorphous silicon (a-Si:H), hydrogenated polymorphous silicon (pm-Si:H) and hydrogenated micro...

Ausführliche Beschreibung

Gespeichert in:
Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:Thin solid films 2003-03, Vol.427 (1), p.127-132
1. Verfasser: Kleider, J.P.
Format: Artikel
Sprache:eng
Schlagworte:
Online-Zugang:Volltext
Tags: Tag hinzufügen
Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!