Changes in material properties of low- k interlayer dielectric polymers induced by exposure to plasmas

We have studied the effects of plasma treatments on the electrical, chemical and mechanical properties of fluorinated-poly-arylene-ether (FLARE) and divinylsiloxane-benzocyclobutane (BCB) polymers for use as low dielectric-constant ( k) interlayer dielectrics in complementary metal-oxide–Si (CMOS)....

Ausführliche Beschreibung

Gespeichert in:
Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:Microelectronic engineering 2003-05, Vol.65 (4), p.463-477
Hauptverfasser: Trabzon, L, Awadelkarim, O.O
Format: Artikel
Sprache:eng
Schlagworte:
Online-Zugang:Volltext
Tags: Tag hinzufügen
Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!