Chemical vapor deposition of carbon films: in-situ plasma diagnostics

Chemical vapor deposition (CVD) is conventionally used to create a variety of carbon mesomaterials including polycrystalline diamond films and carbon nanotubes (CNT). The remarkable flexibility of the CVD process allows one to create materials with dramatically different properties (e.g. diamond, gr...

Ausführliche Beschreibung

Bibliographische Detailangaben

Veröffentlicht in:	Carbon (New York) 2003, Vol.41 (4), p.836-839
Hauptverfasser:	Obraztsov, A.N., Zolotukhin, A.A., Ustinov, A.O., Volkov, A.P., Svirko, Yu.P.
Format:	Artikel
Sprache:	eng
Schlagworte:	A Diamond, Graphitic carbon, Carbon nanotubes, Carbon/carbon composites B Plasma deposition
Online-Zugang:	Volltext
Tags:	Tag hinzufügen Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!