Implantation studies of keV positive muons in thin metallic layers

Implantation studies of keV positive muons in thin metallic layers

The implantation of low energy polarized positive muons (μ +) with energies between 0.5 and 30 keV in thin (

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:Nuclear instruments & methods in physics research. Section B, Beam interactions with materials and atoms Beam interactions with materials and atoms, 2002-05, Vol.192 (3), p.254-266
Hauptverfasser: Morenzoni, E., Glückler, H., Prokscha, T., Khasanov, R., Luetkens, H., Birke, M., Forgan, E.M., Niedermayer, Ch, Pleines, M.
Format: Artikel
Sprache:eng
Schlagworte:
Implantation profiles
Low energy muons
Muon energy loss
Muon spin rotation
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Beschreibung
Zusammenfassung:The implantation of low energy polarized positive muons (μ +) with energies between 0.5 and 30 keV in thin (
ISSN:0168-583X
1872-9584
DOI:10.1016/S0168-583X(01)01166-1