Low-dielectric constant FLARE 2.0 films for bottom antireflective coating layers in KrF lithography

In this paper, we demonstrate a new bottom-antireflective coating (BARC) layer for KrF lithography. The antireflective layer is composed of a commercial low-dielectric constant FLARE 2.0-based film. By adding an optimized etching hard-mask layer, reflectance of less than 3% at the resist/silicon sub...

Ausführliche Beschreibung

Bibliographische Detailangaben

Veröffentlicht in:	Solid-state electronics 2002-08, Vol.46 (8), p.1127-1131
Hauptverfasser:	Chen, H.L, Cheng, H.C, Li, M.Y, Ko, F.H, Huang, T.Y, Chu, T.C
Format:	Artikel
Sprache:	eng
Online-Zugang:	Volltext
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