Heavily doped GaAs : Se. II, electron mobility
A study of the mobility μ of Se-doped n+-GaAs grown by metalorganic chemical vapor deposition is presented. A significant decrease in μ is observed for n>1×1018 cm−3, which is a general characteristic of n+-GaAs. Previous explanations that the low values of μ are the result of autocompensation by...
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Veröffentlicht in: | Journal of applied physics 1990-09, Vol.68 (5), p.2376-2381 |
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Hauptverfasser: | , , |
Format: | Artikel |
Sprache: | eng |
Schlagworte: | |
Online-Zugang: | Volltext |
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