Electron and chemical kinetics in methane rf glow-discharge deposition plasmas

Experimental measurements and theoretical modeling of methane deposition plasmas have led to the identification of the most likely homogeneous and heterogeneous reaction paths leading to the deposition of amorphous carbon thin films. Experimental measurements of the voltage, current waveforms, mass...

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:Journal of applied physics 1989-01, Vol.65 (1), p.70-78
Hauptverfasser: Kline, Laurence E., Partlow, William D., Bies, William E.
Format: Artikel
Sprache:eng
Online-Zugang:Volltext
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