High electron mobility in modulation-doped Si/SiGe
Ultrahigh-vacuum chemical vapor deposition has been exploited to grow single-heterojunction n-type modulation-doped Si/SiGe structures. Phosphorus dopant is imbedded in the SiGe layer at two distinct positions: one at the surface to prevent depletion by surface states, and the other separated from t...
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Veröffentlicht in: | Applied physics letters 1991-05, Vol.58 (19), p.2117-2119 |
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Hauptverfasser: | , , |
Format: | Artikel |
Sprache: | eng |
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Online-Zugang: | Volltext |
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