High electron mobility in modulation-doped Si/SiGe

Ultrahigh-vacuum chemical vapor deposition has been exploited to grow single-heterojunction n-type modulation-doped Si/SiGe structures. Phosphorus dopant is imbedded in the SiGe layer at two distinct positions: one at the surface to prevent depletion by surface states, and the other separated from t...

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:Applied physics letters 1991-05, Vol.58 (19), p.2117-2119
Hauptverfasser: ISMAIL, K, MEYERSON, B. S, WANG, P. J
Format: Artikel
Sprache:eng
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