High Dose Metal Ion Implantation
To affect non-electronic surface properties (wear, corrosion and so on) the implanted material must reach measureable atom percentages, approx 10%, requiring ion implantation doses in the range of 10 exp 17 cm exp --2 . For this reason, the MEVVA metallic ion source, developed at Lawrence Berkeley L...
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Veröffentlicht in: | Nuclear instruments & methods in physics research. Section B, Beam interactions with materials and atoms Beam interactions with materials and atoms, 1988-11, Vol.B40-B41 (1), p.567-570 |
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Format: | Artikel |
Sprache: | eng |
Online-Zugang: | Volltext |
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