High Dose Metal Ion Implantation

To affect non-electronic surface properties (wear, corrosion and so on) the implanted material must reach measureable atom percentages, approx 10%, requiring ion implantation doses in the range of 10 exp 17 cm exp --2 . For this reason, the MEVVA metallic ion source, developed at Lawrence Berkeley L...

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:Nuclear instruments & methods in physics research. Section B, Beam interactions with materials and atoms Beam interactions with materials and atoms, 1988-11, Vol.B40-B41 (1), p.567-570
1. Verfasser: Treglio, J R
Format: Artikel
Sprache:eng
Online-Zugang:Volltext
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