Substrate heating in cylindrical magnetron sputtering sources

The magnetic plasma confinement in magnetron sputtering sources makes the plasma ionization process very efficient and allows high sputtering rates to be achieved with reduced substrate heating, particularly in the cylindrical-post magnetron geometry where a virtual anode separates the substrates fr...

Ausführliche Beschreibung

Bibliographische Detailangaben

Veröffentlicht in:	Thin solid films 1978-10, Vol.54 (1), p.23-31
1. Verfasser:	Thornton, John A
Format:	Artikel
Sprache:	eng
Online-Zugang:	Volltext
Tags:	Tag hinzufügen Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!