Computational rule-based approach for corner correction of non-Manhattan geometries in mask aligner photolithography

Bibliographische Detailangaben

Veröffentlicht in:	Optics express 2019-10, Vol.27 (22), p.32523-32535
Hauptverfasser:	Vetter, Andreas, Yan, Chen, Kirner, Raoul, Scharf, Toralf, Noell, Wilfried, Voelkel, Reinhard, Rockstuhl, Carsten
Format:	Artikel
Sprache:	eng
Online-Zugang:	Volltext
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