Thermomigration of silicon wafers in a solar furnace

A 5.5 m, 8.7 kW solar furnace was designed and constructed to process silicon wafers by thermomigration. Under the intense heat, 160 W/cm 2, of the solar furnace, a grid of aluminum wires was migrated through the wafer in 5 min. Helium gas was used to cool the wafer and produce a thermal gradient of 400°C/cm. The heat transfer and efficiency of the system are discussed. Se diseñó y construyó un horno solar de 5,5 m y 8,7 kw para procesar obleas de silicio por termomigración. Bajo el intenso calor, 160 w/cm 2, del horno solar fué migrado una rejilla de alambres de aluminio a través de la oblea en cinco minutos. Para enfriar la oblea se usó gas helio y producir un gradiente térmico de 400°C/cm. Se discute la transferencia de calor y la eficiencia del sistema. On a étudié et construit un four solaire de 5,5 m et 8,7 Kw afin de traiter des structures de silicium par thermomigration. Sous la chaleur intense, 160 watts/cm2, du four solaire, une grille en fils d'aluminium passa à travers la structure en 5 mn. Un gaz d'hélium fut utilisé pour refroidir la structure et produisit un gradian thermique de 400°C/cm. On traite ici du transfert thermique et du rendement du système.