Characterization of lead zirconate titanate thin films deposited at low temperature by reactive facing target sputtering
Lead zirconate titanate thin films have been deposited on platinized silicon substrate at low temperature by reactive facing target sputtering. The effects of substrate temperature, total gas pressure, sputtering ambience, input power and target composition on the phase composition of PZT thin film...
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Veröffentlicht in: | Thin solid films 2000-10, Vol.375 (1), p.267-270 |
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Hauptverfasser: | , , |
Format: | Artikel |
Sprache: | eng |
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