Intralayered Ostwald Ripening to Ultrathin Nanomesh Catalyst with Robust Oxygen‐Evolving Performance

An etching‐intralayered Ostwald ripening process is proposed, which leads to the formation of a β‐Ni(OH)2 ultrathin nanomesh with abundant and uniformly distributed nanopores of 3–4 nm. The nanomesh catalyst exhibits outstanding oxygen evolution reaction performance, with high catalytic current dens...

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:Advanced materials (Weinheim) 2017-03, Vol.29 (10), p.np-n/a
Hauptverfasser: Xie, Junfeng, Zhang, Xiaodong, Zhang, Hao, Zhang, Jiajia, Li, Shuang, Wang, Ruoxing, Pan, Bicai, Xie, Yi
Format: Artikel
Sprache:eng
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Online-Zugang:Volltext
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