Intralayered Ostwald Ripening to Ultrathin Nanomesh Catalyst with Robust Oxygen‐Evolving Performance
An etching‐intralayered Ostwald ripening process is proposed, which leads to the formation of a β‐Ni(OH)2 ultrathin nanomesh with abundant and uniformly distributed nanopores of 3–4 nm. The nanomesh catalyst exhibits outstanding oxygen evolution reaction performance, with high catalytic current dens...
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Veröffentlicht in: | Advanced materials (Weinheim) 2017-03, Vol.29 (10), p.np-n/a |
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Format: | Artikel |
Sprache: | eng |
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