Positive gate-bias temperature instability of ZnO thin-film transistor

The positive gate-bias temperature instability of a radio frequency (RF) sputtered ZnO thin-film transistor (ZnO TFT) is investigated. Under positive gate-bias stress, the saturation drain current and OFF-state current decrease, and the threshold voltage shifts toward the positive direction. The str...

Ausführliche Beschreibung

Gespeichert in:
Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:Chinese physics B 2014-06, Vol.23 (6), p.602-607
1. Verfasser: 刘玉荣 苏晶 黎沛涛 姚若河
Format: Artikel
Sprache:eng
Schlagworte:
Online-Zugang:Volltext
Tags: Tag hinzufügen
Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!