OWL-Based Nanomasks for Preparing Graphene Ribbons with Sub-10 nm Gaps
We report a simple and highly efficient method for creating graphene nanostructures with gaps that can be controlled on the sub-10 nm length scale by utilizing etch masks comprised of electrochemically synthesized multisegmented metal nanowires. This method involves depositing striped nanowires with...
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Veröffentlicht in: | Nano Letters 2012-09, Vol.12 (9), p.4734-4737 |
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Format: | Artikel |
Sprache: | eng |
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Online-Zugang: | Volltext |
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