Tailored Height Gradients in Vertical Nanowire Arrays via Mechanical and Electronic Modulation of Metal-Assisted Chemical Etching
In current top‐down nanofabrication methodologies the design freedom is generally constrained to the two lateral dimensions, and is only limited by the resolution of the employed nanolithographic technique. However, nanostructure height, which relies on certain mask‐dependent material deposition or...
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Veröffentlicht in: | Small (Weinheim an der Bergstrasse, Germany) Germany), 2015-09, Vol.11 (33), p.4201-4208 |
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Format: | Artikel |
Sprache: | eng |
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Online-Zugang: | Volltext |
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