Tailored Height Gradients in Vertical Nanowire Arrays via Mechanical and Electronic Modulation of Metal-Assisted Chemical Etching

In current top‐down nanofabrication methodologies the design freedom is generally constrained to the two lateral dimensions, and is only limited by the resolution of the employed nanolithographic technique. However, nanostructure height, which relies on certain mask‐dependent material deposition or...

Ausführliche Beschreibung

Gespeichert in:
Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:Small (Weinheim an der Bergstrasse, Germany) Germany), 2015-09, Vol.11 (33), p.4201-4208
Hauptverfasser: Otte, M. A., Solis-Tinoco, V., Prieto, P., Borrisé, X., Lechuga, L. M., González, M. U., Sepulveda, B.
Format: Artikel
Sprache:eng
Schlagworte:
Online-Zugang:Volltext
Tags: Tag hinzufügen
Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!