Improving lithographic masks with the assistance of indentations
Indentations etched on the output surface of a metallic mask are proposed to produce fine lithographic patterns with a resolution of 500 nm using the finite-difference time domain （FDTD） method. Such a designed mask is capable of enhancing near field lithography （NFL） resolution more than three time...
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| Veröffentlicht in: | Chinese physics B 2012-05, Vol.21 (5), p.577-582 |
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| Format: | Artikel |
| Sprache: | eng |
| Schlagworte: | |
| Online-Zugang: | Volltext |
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