A random rule model of surface growth

Stochastic models of surface growth are usually based on randomly choosing a substrate site to perform iterative steps, as in the etching model, Mello et al. (2001) [5]. In this paper I modify the etching model to perform sequential, instead of random, substrate scan. The randomicity is introduced n...

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:Physica A 2015-02, Vol.419, p.762-767
1. Verfasser: Mello, Bernardo A.
Format: Artikel
Sprache:eng
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