Optical description of HfO sub(2)/Al/HfO sub(2) multilayer thin film devices

A three-layer system of dielectric/metal/dielectric (D/M/D) has been prepared on Marienfeld commercial glass substrates with Metal = Al, and Dielectric = HfO sub(2) for energy efficient windows applications. Subsequently, HfO sub(2)/Al/HfO sub(2) multilayers have been deposited with 10 nm each HfO s...

Ausführliche Beschreibung

Bibliographische Detailangaben

Veröffentlicht in:	Current applied physics 2014-12, Vol.14 (12), p.1854-1860
Hauptverfasser:	Ramzan, M, Rana, A M, Ahmed, E, Bhatti, A S, Hafeez, M, Ali, A, Nadeem, MY
Format:	Artikel
Sprache:	eng
Schlagworte:	Aluminum Atomic force microscopy Devices Dielectrics Energy management Hafnium oxide Multilayers Thin films
Online-Zugang:	Volltext
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