Direct Chemical Vapor Deposition Growth of WS2 Atomic Layers on Hexagonal Boron Nitride

Atomically thin transition metal dichalcogenides (TMDCs) have attracted considerable interest owing to the spin-valley coupled electronic structure and possibility in next-generation devices. Substrates are one of the most important factors to limit physical properties of atomic-layer materials, and...

Ausführliche Beschreibung

Gespeichert in:
Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:ACS nano 2014-08, Vol.8 (8), p.8273-8277
Hauptverfasser: Okada, Mitsuhiro, Sawazaki, Takumi, Watanabe, Kenji, Taniguch, Takashi, Hibino, Hiroki, Shinohara, Hisanori, Kitaura, Ryo
Format: Artikel
Sprache:eng
Online-Zugang:Volltext
Tags: Tag hinzufügen
Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!