Key process study in nanoimprint lithography
Nanoimprint lithography（NIL） is widely used in the fabrication of nano-scale semiconductor devices for its advantages of high resolution,low cost,and high throughput.However,traditional hard stamp imprinting has some drawbacks such as short stamp lifetime,bad uniformity in big areas,and large partic...
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| Veröffentlicht in: | Journal of semiconductors 2012-10, Vol.33 (10), p.138-141 |
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| Format: | Artikel |
| Sprache: | eng |
| Schlagworte: | |
| Online-Zugang: | Volltext |
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