Enhanced refractive index sensitivity of elevated short-range ordered nanohole arrays in optically thin plasmonic Au films

A simple development of the colloidal lithography technique is demonstrated for fabrication of perforated plasmonic metal films elevated above the substrate surface. The bulk refractive index sensitivity of short-range ordered nanohole arrays in 20 nm thick Au films exhibits an increase of up to 37%...

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:Optics express 2013-06, Vol.21 (12), p.14763-14770
Hauptverfasser: Bochenkov, Vladimir E, Frederiksen, Maj, Sutherland, Duncan S
Format: Artikel
Sprache:eng
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