Study of CMOS Process Variation by Multiplexing Analog Characteristics
Aggressive technology scaling raises the need for efficient methods to characterize and model circuit variation at both the front and back end of line, where critical parameters such as threshold voltage and parasitic capacitance must be carefully modeled for accurate circuit performance. In this pa...
Gespeichert in:
Veröffentlicht in: | IEEE transactions on semiconductor manufacturing 2008-11, Vol.21 (4), p.513-525 |
---|---|
Hauptverfasser: | , |
Format: | Artikel |
Sprache: | eng |
Schlagworte: | |
Online-Zugang: | Volltext bestellen |
Tags: |
Tag hinzufügen
Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!
|
Schreiben Sie den ersten Kommentar!