Effect of annealing temperature and rate of sputtering on the magnetic properties and microstructure of the polycrystalline nickel films with (200) texture
The dependences of the magnetic properties and morphology of polycrystalline nickel (Ni) films with the (200) texture that are fabricated using the dc magnetron sputtering on the SiO 2 /Si(100) substrates on sputtering rate annealing temperature T , and film thickness d are analyzed. It is demonstra...
Gespeichert in:
Veröffentlicht in: | Journal of communications technology & electronics 2012-05, Vol.57 (5), p.498-505 |
---|---|
Hauptverfasser: | , , |
Format: | Artikel |
Sprache: | eng |
Schlagworte: | |
Online-Zugang: | Volltext |
Tags: |
Tag hinzufügen
Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!
|
Schreiben Sie den ersten Kommentar!