Multiple-gate SOI MOSFETs: device design guidelines
This paper describes computer simulations of various SOI MOSFETs with double and triple-gate structures, as well as gate-all-around devices. The concept of a triple-gate device with sidewalls extending into the buried oxide (hereby called a "/spl Pi/-gate" or "Pi-gate" MOSFET) is...
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Veröffentlicht in: | IEEE transactions on electron devices 2002-12, Vol.49 (12), p.2222-2229 |
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Hauptverfasser: | , |
Format: | Artikel |
Sprache: | eng |
Schlagworte: | |
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