Silicon micromechanical structures fabricated by electrochemical process
Silicon micromechanical structures were fabricated by means of sacrificial layers defined with porous silicon and masked by hydrogen ion implantation with adequate thermal annealing. The fabrication process to remove the porous silicon layers with diluted potassium hydroxide at room temperature does...
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Veröffentlicht in: | IEEE sensors journal 2003-12, Vol.3 (6), p.722-727 |
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Hauptverfasser: | , , , |
Format: | Artikel |
Sprache: | eng |
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