Anticathode effect on electron kinetics in electron beam generated \(\mathbf{E} \times \mathbf{B}\) plasma
Electron beam (e-beam) generated plasmas with applied crossed electric and magnetic \(\left(\mathbf{E} \times \mathbf{B}\right)\) fields are promising for low damage processing of materials with applications to microelectronics and quantum information systems. In cylindrical e-beam \(\mathbf{E} \tim...
Gespeichert in:
Veröffentlicht in: | arXiv.org 2024-06 |
---|---|
Hauptverfasser: | , , |
Format: | Artikel |
Sprache: | eng |
Schlagworte: | |
Online-Zugang: | Volltext |
Tags: |
Tag hinzufügen
Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!
|
Schreiben Sie den ersten Kommentar!