An improved model for the I-V characteristics of submicron SiC MESFETs by evaluating the potential distribution inside the channel
This paper presents a detailed mathematical model describing the I - V characteristics of submicron SiC MESFETs. Poisson’s equation with appropriate boundary conditions has been solved to determine the potential distribution inside the channel. The location ( L 1 ) of the Schottky barrier gate with...
Gespeichert in:
Veröffentlicht in: | Journal of computational electronics 2017-09, Vol.16 (3), p.514-525 |
---|---|
Hauptverfasser: | , , |
Format: | Artikel |
Sprache: | eng |
Schlagworte: | |
Online-Zugang: | Volltext |
Tags: |
Tag hinzufügen
Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!
|
Schreiben Sie den ersten Kommentar!