An improved model for the I-V characteristics of submicron SiC MESFETs by evaluating the potential distribution inside the channel

This paper presents a detailed mathematical model describing the I - V characteristics of submicron SiC MESFETs. Poisson’s equation with appropriate boundary conditions has been solved to determine the potential distribution inside the channel. The location ( L 1 ) of the Schottky barrier gate with...

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Veröffentlicht in:Journal of computational electronics 2017-09, Vol.16 (3), p.514-525
Hauptverfasser: Ahmed, M. M., Riaz, M., Ahmed, U. F.
Format: Artikel
Sprache:eng
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