193 nm laser annealing on p-GaN with enhanced hole concentration and wall-plug-efficiency in deep ultraviolet LED
The high acceptor ionization energy and, thus, low carrier concentration in p-type III-nitride have widely been recognized as the bottleneck preventing the development of high-efficiency light-emitting-diodes (LEDs). In this contribution, the influences of 193 nm pulsed laser annealing on the struct...
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Veröffentlicht in: | Applied physics letters 2023-10, Vol.123 (18) |
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Format: | Artikel |
Sprache: | eng |
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