Effect of growth technological conditions on the heterointerface thickness in the InAs/GaSb strained-layer superlattices grown by MOCVD
In this article, we investigated the effect of technological growth parameters by metal-organic chemical vapor deposition (MOCVD) method on the thickness of the transition layers, which affect the value of tensile strain in the structure, in the InAs/GaSb superlattice. We consider that the thickness...
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Veröffentlicht in: | Journal of physics. Conference series 2019-11, Vol.1400 (5), p.55024 |
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Format: | Artikel |
Sprache: | eng |
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Online-Zugang: | Volltext |
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