Boron and barium incorporation at the 4H-SiC/SiO2 interface using a laser multi-charged ion source
A laser multicharged ion source was used to perform interfacial treatment of the 4H-SiC/ SiO 2 interface using B and Ba ions. A Q-switched Nd:YAG laser (wavelength λ = 1064 nm, pulse width τ = 7 ns, and fluence F = 135 J/cm 2 ) was used to ablate B and Ba targets to generate multicharged ions. Th...
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Veröffentlicht in: | Journal of materials science. Materials in electronics 2021-06, Vol.32 (12), p.16079-16087 |
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Hauptverfasser: | , , |
Format: | Artikel |
Sprache: | eng |
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