SnO/β-Ga2O3 vertical pn heterojunction diodes

As a contribution to (transparent) bipolar oxide electronics, vertical pn heterojunction diodes were prepared by plasma-assisted molecular beam epitaxy of unintentionally doped p-type SnO layers with hole concentrations ranging from p = 10 18 to 1019 cm−3 on unintentionally doped n-type β-Ga2O3(−201...

Ausführliche Beschreibung

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:Applied physics letters 2020-12, Vol.117 (25)
Hauptverfasser: Budde, Melanie, Splith, Daniel, Mazzolini, Piero, Tahraoui, Abbes, Feldl, Johannes, Ramsteiner, Manfred, von Wenckstern, Holger, Grundmann, Marius, Bierwagen, Oliver
Format: Artikel
Sprache:eng
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