Effect of the Ba+ Ion Implantation on the Composition and Electronic Properties of MoO3/Mo(111) Films

It is shown that a film consisting of the Mo–O, Mo–Ba–O, and Ba–O compounds is formed in the ion-implanted layer upon implantation of MoO 3 with the Ba + ions. Such a process leads to a sharp variation in the density of state of valence electrons, a decrease in work function e φ to 2.7 eV, a decreas...

Ausführliche Beschreibung

Gespeichert in:
Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:Technical physics 2020-05, Vol.65 (5), p.795-798
Hauptverfasser: Umirzakov, B. E., Tashmukhamedova, D. A., Gulyamova, S. T., Allayarova, G. Kh
Format: Artikel
Sprache:eng
Schlagworte:
Online-Zugang:Volltext
Tags: Tag hinzufügen
Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!