Method for Controlling the Polarity of Gallium Nitride Layers in Epitaxial Synthesis of GaN/AlN Heterostructures on Hybrid SiC/Si Substrates

The effect of the inversion of polarity in gallium nitride layers from the N-polar GaN layer to the Ga-polar GaN layer was discovered during the sequential growth of GaN films on hybrid SiC/Si(111) substrates by nitrogen plasma-assisted molecular beam epitaxy and chloride–hydride vapor phase epitaxy...

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:Physics of the solid state 2019-12, Vol.61 (12), p.2277-2281
Hauptverfasser: Mizerov, A. M., Kukushkin, S. A., Sharofidinov, Sh. Sh, Osipov, A. V., Timoshnev, S. N., Shubina, K. Yu, Berezovskaya, T. N., Mokhov, D. V., Buravlev, A. D.
Format: Artikel
Sprache:eng
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Online-Zugang:Volltext
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