Large area Silicon-energy filters for ion implantation

In this work we present the first time to our knowledge a large area Si-energy filter for ion implantation based on a 150 mm SOI Wafer Flow Process. The filter consists of a microstructured 125 mm diameter Si-membrane with 6.5 μm thickness supported by the remaining silicon wafer ring. These filters...

Ausführliche Beschreibung

Bibliographische Detailangaben

Veröffentlicht in:	Microelectronic engineering 2020-02, Vol.222, p.111203, Article 111203
Hauptverfasser:	Steinbach, T., Csato, C., Krippendorf, F., Letzkus, F., Rüb, M., Burghartz, J.N.
Format:	Artikel
Sprache:	eng
Schlagworte:	Batteries Computer simulation Diameters Ion implantation Lithium Membranes Silicon Substrates
Online-Zugang:	Volltext
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