Formation of Nanoporous Copper-Silicide Films

The possibility of forming nanoporous copper-silicide films with different phase compositions is experimentally demonstrated. For this purpose, the parameters of the initial a -Si/Cu structure and the conditions of its annealing are chosen so that the process of solid-phase synthesis comes to a halt...

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:	Semiconductors (Woodbury, N.Y.) N.Y.), 2019-03, Vol.53 (3), p.395-399
Hauptverfasser:	Buchin, E. Yu, Naumov, V. V., Vasilyev, S. V.
Format:	Artikel
Sprache:	eng
Schlagworte:	Annealing Clusters Copper Fabrication Inorganic acids Intermetallic compounds Magnetic Materials Magnetism Physics Physics and Astronomy Silicides Silicon Silicon compounds Solid phase synthesis Solid phases Testing of Materials and Structures Treatment
Online-Zugang:	Volltext
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