Silicon nitride films fabricated by a plasma-enhanced chemical vapor deposition method for coatings of the laser interferometer gravitational wave detector
Silicon is a potential substrate material for the large-areal-size mirrors of the next-generation laser interferometer gravitational wave detector operated in cryogenics. Silicon nitride thin films uniformly deposited by a chemical vapor deposition method on large-size silicon wafers is a common pra...
Gespeichert in:
Veröffentlicht in: | Physical review. D 2018-01, Vol.97 (2), Article 022004 |
---|---|
Hauptverfasser: | , , , , , , , , |
Format: | Artikel |
Sprache: | eng |
Schlagworte: | |
Online-Zugang: | Volltext |
Tags: |
Tag hinzufügen
Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!
|
Schreiben Sie den ersten Kommentar!